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J-GLOBAL ID：200903043363610095
光触媒材料の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 成示 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996076364
Publication number (International publication number)：1997262466
Application date： Mar. 29, 1996
Publication date： Oct. 07, 1997
Summary：
【要約】【課題】 酸化チタンを含有する層を担体に形成した後、活性化して製造する光触媒材料の製造方法であって、耐熱性が低い担体にも形成することができ、かつ、生産性が優れた光触媒材料の製造方法を提供する。【解決手段】 100〜280°Cでプラズマ処理を行い活性化する。
Claim (excerpt)：
酸化チタンを含有する層を担体の表面に形成した後、活性化して製造する光触媒材料の製造方法において、活性化する方法が、100〜280°Cでプラズマ処理を行う方法であることを特徴とする光触媒材料の製造方法。
IPC (3)：
B01J 21/06
, B01J 35/02
, B01J 37/34
B01J 21/06 M
, B01J 35/02 J
, B01J 37/34
