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J-GLOBAL ID:200903043386592760

プラズマ処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 市東 禮次郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997264694
Publication number (International publication number):1998233297
Application date: Sep. 29, 1997
Publication date: Sep. 02, 1998
Summary:
【要約】【課題】プラズマへ無線周波電力を結合するプラズマ処理装置の提供。【解決手段】ウェーハ処理室11に、ウェーハ処理・移動手段12、誘電体製の窓13、及び前記室内にプラズマを誘起させるために誘電体窓13外側に配置した同軸コイル15、16を設けてプラズマ処理装置10とする。コイル及び誘電体窓の形を、所要のプラズマ処理の条件に適合させて最適化することができる。プラズマの一様性を検出し、その検出値に応じて前記コイルの電流を制御してもよい。
Claim (excerpt):
断面が規則的であり且つ軸線が対向面対の対称中心を通る如き作業容積付き処理室、及び圧倒的に電界を誘起する複数個の無線周波(RF)プラズマ発生アンテナを備え、前記アンテナの各々に前記断面の形状に対応する幾何学的形状のコイル部を設け、複数の該コイル部が相互に及び前記軸線に対し同軸的になるように前記アンテナを前記室の壁面の上又は近傍に配設してなるプラズマ処理装置。
IPC (7):
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01Q 7/00
FI (7):
H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01Q 7/00 ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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