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J-GLOBAL ID：200903043395138622

露光装置の同期精度検出方法および収差検出方法

Inventor： 澤井 和夫 ,  園田 明弘
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004331746
Publication number (International publication number)：2006147627
Application date： Nov. 16, 2004
Publication date： Jun. 08, 2006
Summary：

【課題】 レジスト膜を露光する際の同期精度を高めるための露光装置の同期精度検出方法を提供する。【解決手段】 ウエハWにレジスト膜を形成し(ステップ1)、このレジスト膜を、例えば、円形のパターンが縦横に並べられたパターンを有するフォトマスクを用いて露光処理し(ステップ2)、現像し(ステップ3)、このパターンに由来してレジスト膜に形成されるホールの形状をスキャテロメトリ技術により測定し(ステップ4)、得られた分光反射スペクトルを解析し(ステップ5)、その形状をフォトマスクのパターン形状と比較する(ステップ6)。その結果、同期精度が良好であれば、製品ウエハの処理に移行し(ステップ7)、不良であれば警報が発令され、工程管理者が露光装置14を点検する(ステップ8)。【選択図】 図5

Claim (excerpt)：

基板にレジスト膜を形成する工程と、 前記レジスト膜をテストパターンが形成されたフォトマスクを用いて露光処理する工程と、 前記基板を現像処理する工程と、 前記テストパターンに由来して形成されるレジストパターンの形状をスキャテロメトリ技術により測定する工程と、 前記テストパターンの形状に対する前記レジストパターンの変形度に基づいて露光装置の同期不良の有無を検出する工程と、 を有することを特徴とする露光装置の同期精度検出方法。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (2)：

H01L21/30 516B ,  H01L21/30 516A

F-Term (3)：

5F046AA17 ,  5F046BA05 ,  5F046DA13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レジストパターン測定方法、走査電子顕微鏡型測長装置及び半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-394725   Applicant：株式会社半導体先端テクノロジーズ