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J-GLOBAL ID:200903043442709650

微小領域光処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 澤野 勝文 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002053282
Publication number (International publication number):2003255235
Application date: Feb. 28, 2002
Publication date: Sep. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】光の回折限界以下のナノメータオーダーで光を照射して、微小領域の光加工・光刺激及び熱刺激等の光処理を行えるようにする。【解決手段】光ファイバ(12)の光出射端(12out)のコア(12a)部分を円錐状に尖らせてその頂点(12b)を除いたテーパ面(12c)に金属コーティング膜(14a)が形成されて成るテーパ化ファイバプローブ(14)を顕微鏡(2)の視野下で任意の処理位置に位置決めし、その頂点(12b)から漏光する近接場光を被処理物(W)の微小領域に照射し、その光エネルギーにより任意の光処理を行うようにした。
Claim (excerpt):
被処理物(W)の微小領域にエネルギー光を照射し、その光エネルギーを利用して任意の光処理を行う微小領域光処理装置であって、被処理物(W)を拡大観察する顕微鏡(2)と、光ファイバ(12)の光出射端(12out)に形成されたテーパ化ファイバプローブ(14)と、当該プローブ(14)を前記顕微鏡(2)の視野下で任意の処理位置に位置決めする位置決めユニット(13)と、前記光ファイバ(12)の光入射端(12in)からエネルギー光を入射させる光源装置(11)を備えると共に、前記テーパ化ファイバプローブ(14)は少なくとも光出射端(12out)のコア(12a)部分を円錐状に尖らせてその頂点(12b)を除いたテーパ面(12c)に金属コーティング膜(14a)が形成されていることを特徴とする微小領域光処理装置。
F-Term (1):
2H052AF19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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