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J-GLOBAL ID：200903043448984520

フォトソルダーレジスト組成物

Inventor： 白石 欣也 ,  渡辺 克己
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269405
Publication number (International publication number)：1994095384
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】信頼性、解像性に優れた、アルカリ現像型フォトソルダーレジストを提供する。【構成】(A) 分子内にカルボキシル基および(または)スルホン酸基を有する光重合性樹脂 100重量部に対して、(B) 光重合開始剤および(または)光重合促進剤 1〜30重量部、(C) エポキシ基を少なくとも1個有し、常温で固体であり、かつ希釈剤に難溶性の化合物10〜100 重量部、(D) エポキシ基を少なくとも1個有し、常温で液状、または希釈剤に可溶性の化合物 0.2〜100 重量部を必須成分とするフォトソルダーレジスト組成物において、 (C)と(D) を混合した後 (C)の融点以上に加熱昇温し、 (C)を溶融させた混合液を必要に応じて冷却した後に分散機を用いて(C) を微粒化することを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)分子内にカルボキシル基および(または)スルホン酸基を有する光重合性樹脂 100重量部に対して、(B)光重合開始剤および(または)光重合促進剤 1〜30重量部、(C)エポキシ基を少なくとも1個有し、常温で固体であり、かつ希釈剤に難溶性の化合物10〜100 重量部、(D)エポキシ基を少なくとも1個有し、常温で液状、または希釈剤に可溶性の化合物 0.2〜100 重量部、を必須成分とするフォトソルダーレジスト組成物において、 (C)と(D) を混合した後 (C)の融点以上に加熱昇温し、 (C)を溶融させた混合液を必要に応じて冷却した後に分散機を用いて (C)を微粒化することを特徴とするフォトソルダーレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  C09D 11/00 PTE ,  G03F 7/027 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032 501 ,  H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-025846
  
• 特開平3-287167
  
• 特開平1-141904