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J-GLOBAL ID:200903043483576222

電子ビーム源

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上島 淳一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993110983
Publication number (International publication number):1994302291
Application date: Apr. 14, 1993
Publication date: Oct. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】プラズマ発生用多孔陽極の電子が透過する多孔部位のみが放電電極となるようにして、この多孔部位のみにプラズマを集中発生させ、電子ビームの引き出し効率を向上させる。【構成】プラズマ発生用陰極18と、プラズマ発生用陰極18との間でプラズマを発生するとともに発生されたプラズマの電子を透過するための透過孔14aが多数穿設された多孔部位Aを備えたプラズマ発生用多孔陽極14と、プラズマ発生用多孔陽極14の透過孔14aから電子を引き出して加速するとともに引き出して加速した電子を透過するための透過孔16aが多数穿設された多孔部位を備えた電子加速用多孔電極16とを順に配置した電子ビーム源であって、プラズマ発生用多孔陽極14のプラズマ発生用陰極側18の表面を、多孔部位Aを除いて絶縁部材50により被覆した。
Claim (excerpt):
プラズマ発生用陰極と、前記プラズマ発生用陰極との間でプラズマを発生するとともに発生されたプラズマの電子を透過するための透過孔が多数穿設された多孔部位を備えたプラズマ発生用多孔陽極と、前記プラズマ発生用多孔陽極の前記透過孔から電子を引き出して加速するとともに引き出して加速した電子を透過するための透過孔が多数穿設された多孔部位を備えた電子加速用多孔電極とを順に配置した電子ビーム源において、前記プラズマ発生用多孔陽極の前記プラズマ発生用陰極側の表面を、前記多孔部位を除いて絶縁部材により被覆したことを特徴とする電子ビーム源。
IPC (2):
H01J 37/077 ,  H05H 1/46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-168541
  • 特開昭63-221540

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