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J-GLOBAL ID：200903043509877846

フェノール酸化酵素

Inventor： アモリー,アントワーヌ ,  ワン,ヒューミン ,  ダース,パトリック ,  ランブレシュ-ロングヴォー,アニック ,  ワン,シンシア
Applicant, Patent owner： ジェネンコア インターナショナル インコーポレーテッド
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000537981
Publication number (International publication number)：2002507411
Application date： Mar. 23, 1999
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】染料および色彩化合物は関連している色彩の変化、ならびに移染防止用途に有用である、スタキボトリス(Stachybotrys)属から得られるフェノール酸化酵素を開示している。スタキボトリス(Stachybotrys)属、特に、新規なフェノール酸化酵素を天然に産生することができるスタキボトリス・パービスポラ(Stachybotrys parvispora)MUCL38996およびスタキボトリス・チャータラム(Stachybotrys chartarum)MUCL38898の生物学的に純粋な培養についても開示している。スタキボトリス(Stachybotrys)属のフェノール酸化酵素のアミノ酸配列および核酸配列、ならびに発現ベクターおよび核酸を有する宿主細胞についても開示している。フェノール酸化酵素の産生方法および発現宿主の構築方法について開示している。スタキボトリス(Stachybotrys)属から得られるフェノール酸化酵素を含む酵素組成物について開示している。

Claim (excerpt)：

スタキボトリス(Stachybotrys)属から得られることを特徴とする精製フェノール酸化酵素。

IPC (14)：

C12N 15/09 ZNA ,  C12N 1/15 ,  C12N 1/19 ,  C12N 1/21 ,  C12N 9/02 ,  C12P 21/00 ,  C12R 1:66 ,  C12R 1:885 ,  C12R 1:785 ,  C12R 1:85 ,  C12R 1:645 ,  C12R 1:78 ,  C12R 1:07 ,  C12R 1:19

FI (14)：

C12N 1/15 ,  C12N 1/19 ,  C12N 1/21 ,  C12N 9/02 ,  C12P 21/00 ,  C12R 1:66 ,  C12R 1:885 ,  C12R 1:785 ,  C12R 1:85 ,  C12R 1:645 ,  C12R 1:78 ,  C12R 1:07 ,  C12R 1:19 ,  C12N 15/00 ZNA A

F-Term (70)：

4B024AA03 ,  4B024AA05 ,  4B024BA08 ,  4B024CA04 ,  4B024CA20 ,  4B024DA05 ,  4B024DA06 ,  4B024DA07 ,  4B024DA11 ,  4B024DA12 ,  4B024EA04 ,  4B024FA10 ,  4B024FA15 ,  4B024GA11 ,  4B024GA19 ,  4B024GA27 ,  4B024HA11 ,  4B050CC01 ,  4B050CC03 ,  4B050DD03 ,  4B050EE01 ,  4B050FF03E ,  4B050FF04E ,  4B050FF05E ,  4B050FF12E ,  4B050LL02 ,  4B050LL04 ,  4B050LL05 ,  4B064AG01 ,  4B064CA02 ,  4B064CA05 ,  4B064CA06 ,  4B064CA19 ,  4B064CC01 ,  4B064CC24 ,  4B064CE03 ,  4B064CE04 ,  4B064CE06 ,  4B064CE07 ,  4B064DA10 ,  4B064DA19 ,  4B065AA26X ,  4B065AA58X ,  4B065AA58Y ,  4B065AA60X ,  4B065AA70X ,  4B065AA72X ,  4B065AA80X ,  4B065AB01 ,  4B065AC14 ,  4B065AC15 ,  4B065BA02 ,  4B065BA22 ,  4B065BA25 ,  4B065BB01 ,  4B065BB03 ,  4B065BB12 ,  4B065BB15 ,  4B065BB26 ,  4B065BB27 ,  4B065BC03 ,  4B065BC05 ,  4B065BC09 ,  4B065BD14 ,  4B065BD15 ,  4B065BD18 ,  4B065CA28 ,  4B065CA41 ,  4B065CA57 ,  4B065CA60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-160684
  
• 光学活性エポキシドの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-037726   Applicant：ダイセル化学工業株式会社