Pat
J-GLOBAL ID：200903043585232692
芳香族ポリエーテルスルホンの光学等方性フィルムの製造方法
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
前田 純博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995127877
Publication number (International publication number)：1996318538
Application date： May. 26, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：
【要約】【目的】 光学等方性、均質性に優れた芳香族ポリエーテルスルホンフィルムの製造方法を提供する。【構成】 溶液流延法による製膜において、(I)溶媒の含有量が5〜25重量%になるまで溶媒を蒸発させて自立性のある前乾燥フイルムを形成する前乾燥工程と、(II)支持体から剥離したのち、前記前乾燥フイルムを幅方向に収縮可能な状態で加熱乾燥する後乾燥工程、ここでの乾燥温度(T°C)が下記式(1) Tg’-50<T<Tg’ ・・・(1)[ただし、Tg’(°C)は残留溶媒を含む芳香族ポリエーテルスルホンフイルムのガラス転移温度であり、この温度は乾燥が進むにつれ残留溶媒含有量の減少とともに上昇する。]を満足するようにTg’の推移に合わせて連続的にまたは段階的に昇温していく、とで乾燥を実施する。溶媒として塩化メチレン等のハロゲン系溶媒を用いる。
Claim (excerpt)：
ハロゲン系溶媒を60重量%以上含有する溶媒15〜90重量部、及び芳香族ポリエーテルスルホン10重量部を含有してなる芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成物を支持基板上に流延し、そして溶媒を含む流延フイルムを加熱して溶媒を蒸発させてフィルムを製造するに際して、(I)溶媒の含有量が5〜25重量%になるまで溶媒を蒸発させて自立性のある前乾燥フイルムを形成する前乾燥工程と、(II)支持体から剥離したのち、前記前乾燥フイルムを幅方向に収縮可能な状態で加熱乾燥する後乾燥工程、ここでの乾燥温度(T°C)が下記式(1)【数1】 Tg’-50<T<Tg’ ・・・(1)[ただし、Tg’(°C)は残留溶媒を含む芳香族ポリエーテルスルホンフイルムのガラス転移温度であり、この温度は乾燥が進むにつれ残留溶媒含有量の減少とともに上昇する。]を満足するようにTg’の推移に合わせて連続的にまたは段階的に昇温していく、とで乾燥を実施することを特徴とする芳香族ポリエーテルスルホンの光学等方性フィルムの製造方法。
IPC (6)：
B29C 41/12
, B29C 41/46
, C08J 5/18 CEZ
, C08L 71/10 LQK
, C08L 81/06 LRF
, B29L 7:00
B29C 41/12
, B29C 41/46
, C08J 5/18 CEZ
, C08L 71/10 LQK
, C08L 81/06 LRF
