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J-GLOBAL ID：200903043621871710

軟磁性薄膜の製造方法

Inventor： 矢野 暢芳 ,  岡 和貴 ,  小笠原 勇
Applicant, Patent owner： ユニチカ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994022094
Publication number (International publication number)：1995211573
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 良好な軟磁気特性を安定して得ることのできる軟磁性薄膜の製造方法を提供する。【構成】 ガス雰囲気中でターゲットをスパッタすることにより基板上に軟磁性薄膜を形成するに際し、ガスとして不活性ガスと不飽和炭化水素系ガスとを用いることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

ガス雰囲気中でターゲットをスパッタすることにより基板上に軟磁性薄膜を形成するに際し、ガスとして不活性ガスと不飽和炭化水素系ガスとを用いることを特徴とする軟磁性薄膜の製造方法。

IPC (2)：

H01F 41/18 ,  C23C 14/34