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J-GLOBAL ID：200903043665629950

セラミツクス超電導導体の製造方法

Inventor： 菊地 祐行 ,  三村 正直 ,  根本 清
Applicant, Patent owner： 古河電気工業株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991194369
Publication number (International publication number)：1993041117
Application date： Aug. 02, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は長尺にしてツイスト加工を施した多芯セラミックス超電導導体を低廉化に製造せんとする方法である。【構成】 本発明方法はセラミックス原料と金属とからなる複合ビレットに所望回数の断面減少加工を施して所定の形状を有する多芯状複合線材に成形すると同時に巻取ボビンを回転させて該複合線材に所定のピッチをうるようにツイスト加工を施したものである。

Claim (excerpt)：

超電導導体となしうるセラミックスの原料と金属とからなる複合ビレットに所望回数の断面減少加工を施して、多芯複合線材に成形した後、熱処理を行ってセラミックス超電導導体を製造する方法において、最終回の断面減少加工工程により所定形状を有する多芯複合線材に成形すると同時に、該複合線材に所定のピッチをうるように巻取りボビンを回転させてツイスト加工を施すことを特徴とするセラミックス超電導導体の製造方法。

IPC (3)：

H01B 13/00 565 ,  B21F 7/00 ZAA ,  H01B 12/10 ZAA