Pat
J-GLOBAL ID：200903043670628350
蛍光X線分析装置
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994173546
Publication number (International publication number)：1996015187
Application date： Jul. 02, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：
【要約】【目的】 大気の吸収による影響を可及的に少なくするとともに、試料の交換ごとに真空引きやHeガスの置換などを行う必要がなく、Na、Mg、Alといった軽元素をも確実に検出することができる蛍光X線分析装置を提供すること。【構成】 X線発生機2によって発せられる一次X線aをX線導管4によってX線照射領域まで導き、このX線照射領域に設けられるX線遮蔽壁7に開設された開口部8を通して一次X線aを試料ステージ9上の試料10に照射し、そのとき生ずる蛍光X線bをX線検出器11によって検出するようにした蛍光X線分析装置において、前記開口部8にX線の吸収率が低い樹脂膜18を張設して、X線導管4およびX線検出器11が設けられる第一空間19と試料ステージ9が設けられる第二空間20とに区分し、第一空間19を真空状態にした。
Claim (excerpt)：
X線発生機によって発せられる一次X線をX線導管によってX線照射領域まで導き、このX線照射領域に設けられるX線遮蔽壁に開設された開口部を通して一次X線を試料ステージ上の試料に照射し、そのとき生ずる蛍光X線をX線検出器によって検出するようにした蛍光X線分析装置において、前記開口部にX線の吸収率が低い樹脂膜を張設して、X線導管およびX線検出器が設けられる第一空間と試料ステージが設けられる第二空間とに区分し、さらに、第一空間を真空状態にしたことを特徴とする蛍光X線分析装置。
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
