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J-GLOBAL ID：200903043709997412

ガス処理方法とそのシステム

Inventor： 大石 和城 ,  清家 聡
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 橋本 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002343511
Publication number (International publication number)：2004174371
Application date： Nov. 27, 2002
Publication date： Jun. 24, 2004
Summary：

【課題】より低廉かつ効率的さらに安定した二酸化炭素の除去を実現すると共に、除去した二酸化炭素成分を有効的に利用する。【解決手段】ナトリウムイオンを透過する電解質膜10とナトリウム化合物の水溶液が供されるアノード11と被処理ガスが供されるカソード12とを備え、この両極間に直流電圧を印加してカソード12側においてガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去するガス処理装置1と、ナトリウムイオンを透過する電解質膜を設置してアノード室とカソード室を形成しアノード室に炭酸塩の水溶液を供給する経路とカソード室に水を供給する経路とを備え前記両室の液相間に直流電圧を印加してカソード室において水酸化ナトリウムを生成する再生槽3と、カソード室で生成した水酸化ナトリウム水溶液のナトリウムイオン濃度及びガス処理装置1のアノードへの供給量を一定に制御する調整槽4とを備える。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

ナトリウムイオンを透過する電解質膜にアノードとカソードとを設け、アノードにはナトリウム化合物の水溶液を接触すると共に、カソードには被処理ガスを供し、この両極間に直流電圧を印加することにより、カソード側において前記ガス中の二酸化炭素を炭酸塩の形態で分離除去する工程と、 ナトリウムイオンを透過する電解質膜を介してアノード液相とカソード液相を形成し、アノード液相には前記炭酸塩の水溶液を供給すると共にカソード液相には水を供給し、この液相間に直流電圧を印加することにより、カソード液相において水酸化ナトリウムを生成する工程と、 この工程で得た水酸化ナトリウムの水溶液のナトリウムイオン濃度を調整した後、この水溶液を前記アノードに供給する工程とを有すること を特徴とするガス処理方法。

IPC (6)：

B01D61/44 ,  B01D53/22 ,  B01D61/48 ,  C10L3/10 ,  C25B1/14 ,  C25B15/08

FI (6)：

B01D61/44 500 ,  B01D53/22 ,  B01D61/48 ,  C25B1/14 ,  C25B15/08 302 ,  C10L3/00 B

F-Term (34)：

4D006GA17 ,  4D006GA41 ,  4D006HA47 ,  4D006KA02 ,  4D006KA33 ,  4D006KA72 ,  4D006KD09 ,  4D006KD17 ,  4D006MA12 ,  4D006MB03 ,  4D006MB07 ,  4D006MC03 ,  4D006MC24 ,  4D006MC27 ,  4D006MC28 ,  4D006PA04 ,  4D006PB18 ,  4D006PB64 ,  4D006PC62 ,  4D006PC69 ,  4K021AA01 ,  4K021AB01 ,  4K021AB25 ,  4K021BA01 ,  4K021BC01 ,  4K021BC02 ,  4K021CA08 ,  4K021CA09 ,  4K021CA11 ,  4K021DB04 ,  4K021DB05 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC15