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J-GLOBAL ID：200903043720968203

ポリチオフェン

Inventor： シユテフアン・キルヒマイアー ,  クラウス・ブソウ ,  フリードリヒ・ヨナス ,  アンドレアス・エルシユナー
Applicant, Patent owner： バイエル アクチェンゲゼルシャフト
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001355941
Publication number (International publication number)：2002206022
Application date： Nov. 21, 2001
Publication date： Jul. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 無水溶媒又は低含水率溶媒に容易に溶解性又は分散性である高い品質のポリチオフェンの製造方法を提供すること。【解決手段】 無水溶媒又は低含水率溶媒に可溶性又は分散可能なポリチオフェンは、ポリチオフェンを無水又は低含水率溶媒中で且つ相間移動触媒を反応中に添加する場合に得ることができる。

Claim (excerpt)：

a)一般式(I)【化1】式中、R1は1〜10個の炭素原子を有する未置換のもしくは置換されたアルキレン又はアルケニレン基であり、そしてR及びR2は互いに独立に水素、1〜20個の炭素原子を有する線状もしくは分岐状アルキル基、OH、O-CH2-CH2-CH2-SO3H、又は1〜18個の炭素原子を有するO-アルキルである、で示される1種又はそれ以上のチオフェン、b)1個又はそれ以上のスルホン酸基を含有する少なくとも1種の化合物、c)少なくとも1種の酸化剤、d)少なくとも1種の相間移動触媒、及びe)所望により1種又はそれ以上の触媒、を少なくとも1種の無水溶媒又は低含水率溶媒中で0〜150°Cの温度で反応させ、次いで生成物を処理することを特徴とするポリチオフェンの製造方法。

IPC (3)：

C08G 61/12 ,  C09D 5/24 ,  C09D165/00

FI (3)：

C08G 61/12 ,  C09D 5/24 ,  C09D165/00

F-Term (9)：

4J032BA04 ,  4J032BB01 ,  4J032BC02 ,  4J032BC03 ,  4J038CR071 ,  4J038DA011 ,  4J038DF001 ,  4J038GA12 ,  4J038NA20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• コンデンサおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-118928   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開平1-313521
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• MOLECULAR CRYSTALS AND LIQUID CRYSTALS, 1998, 第327巻, 237-240頁