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J-GLOBAL ID：200903043769335184

酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法

Inventor： 堀内 達郎 ,  杉山 豊彦 ,  高嶋 廣夫 ,  安江 和夫 ,  宇敷 建一
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院名古屋工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993109954
Publication number (International publication number)：1994298520
Application date： Apr. 13, 1993
Publication date： Oct. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 酸化チタン超微粒子をシリカコロイドに分散したのち、コロイドをゲル化し、次いで焼成することにより、酸化チタン超微粒子を分散状態で含むシリカゲルを製造する方法である。【効果】 量子閉じ込め効果を有し、透明性の良好な酸化チタン超微粒子分散シリカゲルを、容易に入手可能な原料を用いて、簡単な操作で得ることができる。

Claim (excerpt)：

酸化チタン超微粒子をシリカコロイドに分散したのち、コロイドをゲル化し、次いで焼成することを特徴とする酸化チタン超微粒子分散シリカゲルの製造方法。