Pat

J-GLOBAL ID：200903043771760917

フォトニック結晶素子の作製方法及び作製装置

Inventor： 請地 光雄 ,  加来 良二
Applicant, Patent owner： 日本航空電子工業株式会社
Agent (1)： 草野 卓 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000058659
Publication number (International publication number)：2001249234
Application date： Mar. 03, 2000
Publication date： Sep. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】 簡易な作製方法を提供する。【解決手段】 ポリマー媒質中に微粒子23を配列分散してコンポジットマテリアル24を作製し、そのコンポジットマテリアル24を高密度圧縮成形することにより、フォトニック・バンドギャップを発現する大きさに縮小してフォトニック結晶素子26を得る。微粒子23のポリマー媒質中への配列は操作の容易なスケール(数10μm〜数mm)で行える。

Claim (excerpt)：

ポリマー媒質中に微粒子を配列分散してコンポジットマテリアルを作製し、そのコンポジットマテリアルを高密度圧縮成形することにより、フォトニック・バンドギャップを発現する大きさに縮小してフォトニック結晶素子を得ることを特徴とするフォトニック結晶素子の作製方法。

IPC (2)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

F-Term (2)：

2H047PA00 ,  2H047PA28