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J-GLOBAL ID:200903043787687780
基板の吸着保持装置およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996111166
Publication number (International publication number):1997283605
Application date: Apr. 09, 1996
Publication date: Oct. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 ピン型凸部エッジにおいて起きていた、異物の付着や食い込みを回避してクリーニング性を向上し、もってデフォーカスに起因したチップ不良の発生を低減する。【解決手段】 ピン型チャックの平坦な頂部を有するピンの形成後にピンの頂部の周辺部を丸めて滑らかなラウンド曲面に整えるラウンド加工を施す。このラウンド処理は、例えば、ブラシ研磨やクロスを用いた研磨加工により行なうことができる。
Claim (excerpt):
薄板状の基板が載置される載置面が平坦な頂部を有する複数のピン型凸部および縁堤型の凸部によって構成される載置台と、基板を前記載置面に載置したときに前記ピン型凸部間およびピン型凸部と縁堤型凸部間に形成される凹部を減圧保持するための負圧吸着手段を具備した基板吸着保持装置において、個々のピン型凸部における頂部周辺のエッジ部形状が、丸められた滑らかな曲面を有することを特徴とする吸着保持装置。
IPC (3):
H01L 21/68
, G03F 1/14
, H01L 21/027
FI (3):
H01L 21/68 P
, G03F 1/14
, H01L 21/30 503 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭63-028035
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ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-277657
Applicant:住友金属工業株式会社
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特開昭63-028035
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