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J-GLOBAL ID：200903043796003932

圧電体薄膜素子の製造方法、この圧電体薄膜素子を用いたインクジェット式記録ヘッド、並びにこの記録ヘッドを用いたインクジェット式プリンタ

Inventor： 亀井 宏行 ,  松崎 真 ,  西脇 学 ,  島田 勝人 ,  松沢 明
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998282897
Publication number (International publication number)：1999192713
Application date： Oct. 05, 1998
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 所望の組成が得られ、良好な圧電体歪み特性を発揮でき、アクチュエータとして良好に機能する圧電体薄膜素子を提供する。【解決手段】 基板10上に下部電極14を形成し、この下部電極上に圧電体の前駆体薄膜層を形成してこれにパターニングを施し、その後この基板に水熱処理のための加熱溶液を適用することにより前駆体薄膜層を選択的に結晶化させて圧電体薄膜層を得る。

Claim (excerpt)：

基板上に下部電極層、圧電体薄膜層、次いで上部電極層を形成してなる圧電体薄膜素子の製造方法において、前記下部電極上に圧電体の前駆体薄膜層を形成してこれにパターニングを施し、その後、この基板に水熱処理のための加熱溶液を適用することにより前記前駆体薄膜層を選択的に結晶化させて前記圧電体薄膜層を得る、ことを特徴とする圧電体薄膜素子の製造方法。

IPC (5)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22

FI (4)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 A ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z