新規スルホン酸誘導体

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：栗原浩之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002137292
Publication number (International publication number)：2003327572
Application date： May. 13, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、PED安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるスルホン酸誘導体とする。【化1】(式中、Rは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基を示す。Rfは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のパーフルオロアルキル基を示す。Mm+は対カチオンであり、mは整数である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるスルホン酸誘導体。【化1】(式中、Rは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基を示す。Rfは、炭素数1〜20の、直鎖状、分岐状もしくは環状のパーフルオロアルキル基を示す。Mm+は対カチオンであり、mは整数である。)

IPC (5)：

C07C309/19 , C07C309/06 , C07C381/12 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (5)：

C07C309/19 , C07C309/06 , C07C381/12 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

F-Term (10)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 4H006AA01 , 4H006AB40

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

Return to Previous Page