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J-GLOBAL ID：200903043829433202

基材又は基盤表面の接触角の増加防止方法及び装置

Inventor： 藤井 敏昭 ,  鈴木 作 ,  鈴木 英友 ,  坂本 和彦
Applicant, Patent owner： 荏原インフィルコ株式会社 ,  株式会社荏原総合研究所
Agent (1)： 吉嶺 桂 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991341802
Publication number (International publication number)：1993157284
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ、半製品、製品等の基材又は基盤の接触角を増加する汚染物質を効果的に除去できる接触角の増加防止方法及び装置を提供する。【構成】 基材又は基盤表面の接触角の増加を防止する方法において、該基材又は基盤と接触する空気を、除塵手段、及び吸着及び/又は吸収手段により、該空気中の微粒子及びガス状の有害物質を除去して、前記基材又は基盤と接触させることとしたものであり、また、該装置として、該基材又は基盤と接触する空気を通す微粒子を除去するための除塵装置3とガス状有害物質を除去するためのガス吸着及び/又は吸収除去装置4を備えることとしたものである。

Claim (excerpt)：

基材又は基盤表面の接触角の増加を防止する方法において、該基材又は基盤と接触する空気を、除塵手段、及び吸着及び/又は吸収手段により、該空気中の微粒子及びガス状の有害物質を除去して、前記基材又は基盤と接触させることを特徴とする接触角の増加防止方法。

IPC (2)：

F24F 3/16 ,  H01L 21/02