Pat

J-GLOBAL ID：200903043855387570

アセタール基を含有するアルコキシ-スチレン重合体とその製造方法及びアルコキシ-スチレン重合体を主要成分とする化学増幅型フォトレジスト材料

Inventor： キム セオン-ジュ ,  パーク ジョー-ヒョン ,  キム ジ-ホン ,  パーク スン-イ
Applicant, Patent owner： クンホセオキュイーワハクジュシクヘサ
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996317896
Publication number (International publication number)：1997235326
Application date： Nov. 28, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】 アセタール基を含有するアルコキシ-スチレン重合体とその製造方法及びこれを主要成分とする高感度、高解像性の化学増幅型ネガティブレジスト材料を提供することである。【解決手段】 アルコキシ-スチレン重合体は下記一般式(I)で表示される。【化1】ここで、R1 及びR3 は-H又は-CH3 であり、R2 は【化2】であり、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 は-H、アルキル基又はアリール基でありそれぞれ独立である。m+n=1であり、k=1〜5の整数であり、lは0〜5の整数である。

Claim (excerpt)：

下記の一般式(I)で表示され、重量平均分子量が500〜10,000,000であるアルコキシ-スチレン重合体。【化1】前記一般式で、R1 及びR3 は-H又は-CH3 であり、R2 は【化2】であり、R4 、R5 、R6 、R7 及びR8 はそれぞれ独立に、-H、アルキル基又はアリール基を示し、m+n=1である。k=1〜5の整数であり、lは0〜5の整数である。

IPC (5)：

C08F112/14 ,  C08F 8/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (5)：

C08F112/14 ,  C08F 8/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平2-020507
  
• 特開平3-126039