Pat

J-GLOBAL ID：200903043948218506

溶存気体濃度増加装置及び溶存気体濃度増加方法

Inventor： 佐藤 清
Applicant, Patent owner： 佐藤 清 ,  坂野 數仁
Agent (1)： 開口 宗昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001282202
Publication number (International publication number)：2003088736
Application date： Sep. 17, 2001
Publication date： Mar. 25, 2003
Summary：

【要約】【課題】 水中の溶存気体濃度を増加することができ、溶存気体濃度増加装置及び溶存気体濃度増加方法を提供する。【解決手段】気体導入口3から導入された気体は多孔質膜4中を通過し気泡11として水槽中に遊離し、水平方向に振動するプレート5が有する孔8中を通過し、微細化された気泡11aとなり、溶存酸素濃度が増加した水12が生成される。水槽2の上方には溶解空気貯留部2aが形成されて溶解空気が貯留され、係る溶解空気中の酸素が水12の界面12aからも水12中に溶解する反応が進行する。その際、磁場発生装置10の駆動軸10aを駆動してNS磁石10bを回転することによって回転子9を回転させ、水12中に対流Bを生じさせることによって水12の界面12a近傍における水の滞留を防止する。

Claim (excerpt)：

気体導入口を備える気密槽と該気密槽内に収納される水槽と、該水槽内に磁場を発生する磁場発生装置とより成り、該水槽の内部に前記磁場発生装置によって発生される磁場によって回転する回転子を収納してなることを特徴とする溶存気体濃度増加装置。

IPC (17)：

B01F 1/00 ,  A01K 63/02 ,  A23L 2/00 ,  A23L 2/52 ,  B01D 53/22 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/06 ,  B01F 11/00 ,  B01F 13/08 ,  B01F 15/02 ,  B01F 15/06 ,  B01J 19/00 311 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 540 ,  C25B 1/04

FI (17)：

B01F 1/00 A ,  A01K 63/02 A ,  B01D 53/22 ,  B01F 3/04 A ,  B01F 5/06 ,  B01F 11/00 Z ,  B01F 13/08 Z ,  B01F 15/02 A ,  B01F 15/06 Z ,  B01J 19/00 311 Z ,  C02F 1/68 510 A ,  C02F 1/68 510 J ,  C02F 1/68 520 Z ,  C02F 1/68 540 F ,  C25B 1/04 ,  A23L 2/00 V ,  A23L 2/26

F-Term (47)：

2B104BA06 ,  2B104CA09 ,  2B104CB01 ,  2B104EA05 ,  2B104EB00 ,  2B104EB01 ,  2B104EB04 ,  2B104EC20 ,  4B017LC02 ,  4B017LC03 ,  4B017LG04 ,  4B017LP10 ,  4B017LT05 ,  4D006GA35 ,  4D006KB30 ,  4D006MA03 ,  4D006MB03 ,  4D006PB02 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AC26 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G035AE17 ,  4G036AB30 ,  4G036AC23 ,  4G037AA01 ,  4G037CA20 ,  4G037EA01 ,  4G037EA10 ,  4G075AA03 ,  4G075AA15 ,  4G075BB03 ,  4G075BD13 ,  4G075BD27 ,  4G075CA43 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EB01 ,  4G075ED01 ,  4G075ED15 ,  4G075EE12 ,  4G075FA02 ,  4G075FA14 ,  4G075FC02 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02