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J-GLOBAL ID：200903043971929045

露光方法および装置、ならびにデバイス製造方法

Inventor： 森貞 雅博
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996340445
Publication number (International publication number)：1997251955
Application date： Dec. 06, 1996
Publication date： Sep. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 露光時間をさらに短縮する。【解決手段】 ステップアンドスキャン型の露光装置において、基板ステージのスキャン移動区間(目標位置Pn )とステップ移動区間(目標位置Pn+1 )が隣り合う場合、前記スキャン移動区間におけるスキャン露光が完了した(En )後、更に好ましくはかつそのスキャン移動区間における前記基板ステージの減速を開始する前にステップ移動区間における前記基板ステージの加速を開始する。あるいはスキャン移動区間またはステップ移動区間における減速時の目標加速度もしくはジャーク、および加速時の目標加速度もしくはジャーク、スキャン移動速度、ならびに加速整定時間のうちのいずれか、あるいはこれらの任意の組合せに応じて、スキャン移動区間またはステップ移動区間の加速開始のタイミングを変更する。

Claim (excerpt)：

ウエハを所定方向へスキャン移動して走査露光する動作と、ウエハを該所定方向と異なる方向へステップ移動する動作との組み合わせによって、マスクパターンをウエハの複数の領域に並べて転写する露光方法において、少なくとも、該スキャン移動と該ステップ移動の一方の移動が停止する前に、他方の移動を開始することを特徴とする露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00

FI (5)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 516 B