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J-GLOBAL ID：200903043979992951

ダイヤモンド基板のクリーニング方法

Inventor： 西林 良樹 ,  鹿田 真一
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992335919
Publication number (International publication number)：1994183893
Application date： Dec. 16, 1992
Publication date： Jul. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ダイヤモンド基板の新規なクリーニング法を提供する。【構成】 ダイヤモンド基板に50keV以下の低エネルギーの電子線又は10keV以下のエネルギーのイオンを照射して該ダイヤモンド基板の表面を帯電させ、それと同時にあるいはその後さらに該ダイヤモンド基板に超音波振動を加えることを特徴とする。以上の処理の後に更に酸素原子、水素原子又はハロゲン原子含むガスのプラズマで処理することも好ましい。

Claim (excerpt)：

ダイヤモンド基板に50keV以下の低エネルギーの電子線を照射して該ダイヤモンド基板の表面を帯電させ、それと同時にあるいはその後さらに該ダイヤモンド基板に超音波振動を加えることを特徴とするダイヤモンド基板のクリーニング方法。

IPC (6)：

C30B 29/04 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/10 ,  B08B 7/04 ,  C01B 31/06 ,  C30B 33/00