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J-GLOBAL ID：200903043989605921

オゾン水供給装置

Inventor：
森山 優一

About 森山 優一

, 
水谷 淳二

About 水谷 淳二


Applicant, Patent owner：
株式会社ササクラ

About 株式会社ササクラ


Agent (1)： 三枝 英二 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002016781
Publication number (International publication number)：2003212518
Application date： Jan. 25, 2002
Publication date： Jul. 30, 2003
Summary：
【要約】【課題】 他の成分を溶解させることなく高濃度オゾン水の長距離移送を可能にするオゾン水供給装置を提供する。【解決手段】 純水を冷却する冷却手段16と、冷却された純水にオゾンを溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造手段2と、オゾン水を移送するオゾン水供給管4とを備えるオゾン供給装置1であり、オゾン水供給管4は断熱配管からなり、常温雰囲気において先端部から吐出されるオゾン水の温度が5°C〜20°Cの範囲にあることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
純水を冷却する冷却手段と、冷却された純水にオゾンを溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造手段と、前記オゾン水を移送するオゾン水供給管とを備え、前記オゾン水供給管は断熱配管からなり、常温雰囲気において先端部から吐出されるオゾン水の温度が5°C〜20°Cの範囲にあることを特徴とするオゾン水供給装置。
IPC (5)：
C01B 13/10 ,  B01F 1/00 ,  B01F 15/06 ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/027
FI (5)：
C01B 13/10 D ,  B01F 1/00 A ,  B01F 15/06 ,  C02F 1/78 ,  H01L 21/30 572 B
F-Term (14)：
4D050AA01 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G037AA02 ,  4G037CA00 ,  4G042CE01 ,  5F046MA02 ,  5F046MA05 ,  5F046MA10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (4)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-333291   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-142334   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • オゾン水供給設備
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-172883   Applicant：株式会社コア・コーポレーション
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