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J-GLOBAL ID：200903044005325806

加熱処理装置

Inventor： 磧本 栄一 ,  田上 光広
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 大森 純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999216746
Publication number (International publication number)：2000146444
Application date： Jul. 30, 1999
Publication date： May. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 揮発した溶剤が装置外へ漏れることがない加熱処理装置を提供すること。【解決手段】 排気孔38は、ホットプレート31上の第1の領域?@ばかりでなく、この第1の領域?@を取り囲む第2の領域?Aまで及ぶ大きさにされ、その入口には多数の透孔39を有する板状部材40が配置されている。そして、第1の領域?@及び第2の領域?Aの排気を行い、しかも加熱処理を行っていないときにも排気を行っている。

Claim (excerpt)：

被処理体が載置され加熱される第1の領域を有する加熱処理領域と、前記第1の領域及びこの第1の領域を取り囲む第2の領域と対面するように設けられた排気孔を有する排気カバーと、前記排気孔を介して前記第1及び第2の領域の排気を行う排気手段とを具備することを特徴とする加熱処理装置。

IPC (3)：

F26B 21/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (3)：

F26B 21/00 H ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 567

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 基板熱処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-159860   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社