Pat

J-GLOBAL ID：200903044008302823

シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜および半導体素子

Inventor： 島村 泰夫 ,  森嶋 浩之 ,  山本 靖浩
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994097385
Publication number (International publication number)：1995305028
Application date： May. 11, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 保存安定性の高い、半導体素子の信頼性を向上させるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。【構成】 一般式(I)【化1】(式中R及びR′は、水素または炭素数1〜3のアルキル基を示し、RおよびR′は同じでもよく、nは1〜2の整数を示す)で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒中で加水分解、縮重合させる際に、該アルコキシシラン化合物1モルに対し0.01モル以上(4-n)モル以下の水を用いるシリカ系被膜形成用塗布液の製造法、この塗布液より得られるシリカ系被膜等。

Claim (excerpt)：

一般式(I)【化1】(式中R及びR′は、水素または炭素数1〜3のアルキル基を示し、RおよびR′は同じでもよく、nは1〜2の整数を示す)で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒中で加水分解、縮重合させてシリカ系被膜形成用塗布液を製造する際に、該アルコキシシラン化合物1モルに対し0.01モル以上(4-n)モル以下の水を用いることを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液の製造法。

IPC (4)：

C09D183/04 PMT ,  C08G 77/06 NUB ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-188179
  
• 特開昭64-009231
  
• 特開平3-221577