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J-GLOBAL ID：200903044020385106

光学薄膜およびその製造方法

Inventor： 豊原 延好 ,  川俣 健 ,  生水 利明
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Agent (1)： 奈良 武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994316636
Publication number (International publication number)：1996171002
Application date： Dec. 20, 1994
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 単層あるいは少ない層数で充分に光学特性を有する光学薄膜と、この光学薄膜をスパッタリング法によりを製造する方法を提供する。【構成】 CaF3 、またはLiF、またはNa3 AlF6 、またはNa5 Al3 F14、またはSrF2 のいずれかとシリコンとの混合物によりそれぞれ構成したターゲットを、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより、基板上に光学薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

CaF3 、またはLiF、またはNa3 AlF6 、またはNa5 Al3 F14、またはSrF2 のいずれかとシリコンとの混合物によりそれぞれ構成したターゲットを、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより形成することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (4)：

G02B 1/11 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/30