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J-GLOBAL ID：200903044042044973

膜形成用組成物および層間絶縁膜用材料

Inventor： 西川 通則 ,  角田 真由美 ,  篠田 智隆 ,  山田 欣司
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 白井 重隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999140922
Publication number (International publication number)：2000327999
Application date： May. 21, 1999
Publication date： Nov. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 半導体素子などにおける層間絶縁膜として適当な、均一な厚さを有する塗膜が形成可能な、しかもクラックが生じ難く、弾性率などに優れた膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】 R1 Si(OCH3 )3 (R1 は、1価の有機基を示す)、およびSi(OR2 )4 (R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す)で表される化合物を、有機溶剤中で触媒および水の存在下で加水分解および/または縮合した加水分解縮合物を含有する膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される化合物とR1 Si(OCH3 )3 ・・・・・(1)(R1 は、1価の有機基を示す。)(B)下記一般式(2)で表される化合物Si(OR2 )4 ・・・・・(2)(R2 は、炭素数2以上の1価のアルキル基を示す。)との加水分解縮合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (3)：

C09D183/04 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25

FI (3)：

C09D183/04 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25

F-Term (12)：

4J002CP021 ,  4J002CP022 ,  4J002CP031 ,  4J002CP032 ,  4J002EX036 ,  4J002EX037 ,  4J002GQ05 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038JC32 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 液晶表示素子絶縁被膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-004961   Applicant：日産化学工業株式会社
• シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜及びそれを用いた半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-167346   Applicant：日立化成工業株式会社
• 特開昭63-278977