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J-GLOBAL ID：200903044064218690

水素透過構造体およびその製造方法

Inventor： 上村 卓 ,  吉田 健太郎 ,  奥田 伸之 ,  日方 威 ,  曽我部 浩一
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001102793
Publication number (International publication number)：2002292259
Application date： Apr. 02, 2001
Publication date： Oct. 08, 2002
Summary：

【要約】【課題】 ピンホールのない緻密な水素透過性膜を形成する。【解決手段】 仮支持体1上に水素透過性膜2を形成する工程と、面積比率で、水素透過性膜2の表面の30%以上95%以下を覆うように水素透過性膜2上に、金属を含み開口を有するベース膜4を形成する工程と、ベース膜4を形成した後、仮支持体1を除去することにより水素透過構造体を得る工程とを備える。

Claim (excerpt)：

仮支持体の上に水素透過性膜を形成する工程と、面積比率で前記水素透過性膜の表面の30%以上95%以下を覆うように前記水素透過性膜上に金属を含み開口を有するベース膜を形成する工程と、前記ベース膜を形成した後、前記仮支持体を除去することによって水素透過構造体を得る工程とを備えた、水素透過構造体の製造方法。

IPC (7)：

B01D 67/00 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02 500 ,  H01M 8/06 ,  C01B 3/56

FI (7)：

B01D 67/00 ,  B01D 53/22 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 71/02 500 ,  H01M 8/06 G ,  C01B 3/56 A

F-Term (30)：

4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006JA02A ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA23 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G040FA02 ,  4G040FA06 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FD04 ,  4G140FA02 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FD04 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16