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J-GLOBAL ID：200903044140145320
アッシング方法及びアッシング装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992255790
Publication number (International publication number)：1994177088
Application date： Aug. 31, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：
【要約】【目的】 容易かつ生産性良好に、イオン注入後のレジスト等従来除去し難かったレジストの除去剥離をも容易に行うことができるアッシング方法、及びこれに用いるアッシング装置を提供する。【構成】 ?@温度0°Cまたはその近傍あるいはそれ以下の温度に被処理体を冷却Iして該被処理体上のレジストをアッシングするIIアッシング方法及び装置。?A被処理体を冷却した後、通常の温度で、又は該被処理体を加熱(急熱)IIIし、該被処理体上のレジストをアッシングするアッシング方法及び装置。?B冷却アッシング室及び加熱アッシング室を有するアッシング装置。?C該?Bの加熱・冷却室を交換して交互にアッシングする方法。?D極低温で超音波を印加してアッシングを行う方法及び装置。
Claim (excerpt)：
温度0°Cまたはその近傍あるいはそれ以下の温度に被処理体を冷却して該被処理体上のレジストをアッシングすることを特徴とするアッシング方法。
IPC (4)：
H01L 21/302
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
, H05H 1/46
Cited by examiner (6)
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