イオン化装置および微小領域分析装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003023548
Publication number (International publication number)：2004264043
Application date： Jan. 31, 2003
Publication date： Sep. 24, 2004
Summary：

【課題】質量分析装置を用いて微小領域における分析を高い分解能で行うためのイオン化装置、イオン化方法、質量分析装置および微小領域分析装置を提供する。【解決手段】レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーが入射されて近接場光を発生させる近接場光発生手段とを備え、前記近接場光発生手段から発生した近接場光をマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置を用いる。または、レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーを誘導する光ファイバーと、前記光ファイバーの先端に接続されたレーザー照射プローブとを備え、前記レーザー照射プローブから放射されたレーザーをマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置を用いる。さらにこのイオン化装置を質量分析装置と組み合わせることにより、微小領域分析装置を得る。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザー放射手段と、前記レーザー放射手段から放射されたレーザーが入射されて近接場光を発生させる近接場光発生手段とを備え、前記近接場光発生手段から発生した近接場光をマトリクスに照射することにより、マトリクスと混合された試料をイオン化するイオン化装置。

IPC (3)：

G01N27/64 , G01N27/62 , H01J49/16

FI (3)：

G01N27/64 B , G01N27/62 V , H01J49/16

F-Term (2)：

5C038GG07 , 5C038GH10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

MALDI分析の方法および装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-514750 Applicant：シークエノム・インコーポレーテツド
特開平3-089160
微細表面観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-256817 Applicant：セイコー電子工業株式会社, 藤平正道

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

Return to Previous Page