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J-GLOBAL ID：200903044145580610

洗浄液および洗浄方法

Inventor： 齋藤 正樹
Applicant, Patent owner： 徳山石油化学株式会社
Agent (1)： 秋元 輝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993037346
Publication number (International publication number)：1994232105
Application date： Feb. 03, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ウエハ等の被洗浄物からレジストを剥離液で剥離後、剥離液が付着した被洗浄物を洗浄するための洗浄液および洗浄方法であって、人体に対する安全性が高く、オゾン層破壊の問題がなく、かつ洗浄効果が大きい洗浄剤および洗浄方法を提供する。【構成】 炭素数が8個以上のナフテン系炭化水素化合物を30重量%以上含有し、かつ沸点範囲が170〜200°Cの炭化水素系洗浄剤で洗浄後、炭素数6個以下のケトン、炭素数6個以下のアルコール、あるいはそれらの組み合わせからなる洗浄剤でさらに洗浄する洗浄方法により目的を達成できる。

Claim (excerpt)：

リソグラフイ工程においてレジストを剥離液で剥離した後、剥離液が付着した被洗浄物を洗浄するための洗浄液であって、炭素数が8個以上のナフテン系炭化水素化合物を30重量%以上含有し、かつ沸点範囲が170〜200°Cであることを特徴とする炭化水素系洗浄剤。

IPC (6)：

H01L 21/304 341 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/26