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J-GLOBAL ID：200903044149474059

洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法

Inventor：
三森 健一

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呉 義烈

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大見 忠弘

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笠間 泰彦

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阿部 章

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今岡 孝之

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Applicant, Patent owner：
大見 忠弘

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株式会社フロンテック

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オルガノ株式会社

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Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996334632
Publication number (International publication number)：1998163153
Application date： Nov. 29, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：
【要約】【課題】ウエット処理液の使用量を従来の10分の1以下へと低減することができ、しかも従来よりも高い清浄度を得ることができる省水型のウエット処理液供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法を提供すること。【解決手段】 導入口7を有する導入通路10と排出口15を有する排出通路12とを形成し、導入通路10と排出通路12とをそれぞれの他端において交差せしめて交差部14を形成するとともに交差部14に、被処理物1に向けて開口する開口部6を設けてなるノズル構成体50と、開口部6を介して被処理物1に接触したウエット処理液がウエット処理後に、排出通路12外に流れないように、被処理物1と接触しているウエット処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御手段13とを少なくとも排出通路12側に有することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
一端にウエット処理液を導入するための導入口を有する導入通路と一端にウエット処理後のウエット処理液をウエット処理の系外へ排出するための排出口を有する排出通路とを形成し、該導入通路と該排出通路とをそれぞれの他端において交差せしめて交差部を形成するとともに該交差部に、被ウエット処理物に向けて開口する開口部を設けてなるノズル構成体と、該開口部を介して被ウエット処理物に接触したウエット処理液がウエット処理後に、該排出通路外に流れないように、被ウエット処理物と接触しているウエット処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御手段とを有することを特徴とするウエット処理液供給ノズル。
IPC (5)：
H01L 21/304 341 ,  C23F 1/08 103 ,  C23G 3/00 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306
FI (6)：
H01L 21/304 341 N ,  C23F 1/08 103 ,  C23G 3/00 A ,  H01L 21/30 569 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
  • 半導体加工装置および半導体評価装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-019120   Applicant：三菱電機株式会社
  • 特開昭62-122132
  • 特開平3-259523
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