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J-GLOBAL ID:200903044155603049
水素吸蔵方法及び水素吸蔵装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000031629
Publication number (International publication number):2001220101
Application date: Feb. 09, 2000
Publication date: Aug. 14, 2001
Summary:
【要約】【課題】 より多くの水素を吸蔵することができる水素吸蔵方法及び水素吸蔵装置を提供することにある。【解決手段】 細孔を有する炭素材料に水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵方法及び細孔を有する炭素材料と炭素材料を収納した容器とを含むことを特徴とする水素吸蔵装置である。炭素はその表面に気体分子、液体分子を吸着させる特性を有しており、炭素材料を用いることによりその表面に気体水素分子、液体水素分子を吸着させることができる。また炭素材料は細孔を有しているのでその比表面積は大きくなってより多くの水素分子を吸着させることができる。更に細孔内では水素分子と炭素材料との接触が多くなり、それだけ吸着効果が向上し、炭素材料に水素分子を固定的に吸着させることができる。
Claim (excerpt):
細孔を有する炭素材料に水素を吸蔵させることを特徴とする水素吸蔵方法。
IPC (6):
C01B 3/00
, F17C 11/00
, B01J 20/20
, C01B 31/02 101
, C01B 31/08
, D01F 9/12
FI (6):
C01B 3/00 B
, F17C 11/00 C
, B01J 20/20 A
, C01B 31/02 101 F
, C01B 31/08 Z
, D01F 9/12
F-Term (18):
3E072EA01
, 4G040AA36
, 4G040AA42
, 4G046CB01
, 4G046CB05
, 4G046CB08
, 4G046HB01
, 4G046HB05
, 4G066AA04B
, 4G066AA05B
, 4G066BA23
, 4G066CA38
, 4G066EA20
, 4L037CS03
, 4L037CS04
, 4L037FA03
, 4L037FA04
, 4L037UA20
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