露光用マスク、露光マスク用基板及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木村高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993048301
Publication number (International publication number)：1994083034
Application date： Mar. 09, 1993
Publication date： Mar. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は、ごみの付着や欠陥の発生を招くことなく複数の半透明膜を容易に形成することができ、工程の簡略化をはかり得、高精度の露光マスクを提供することを目的とする。【構成】本発明では、透光性基板上にマスクパタ-ンを形成した露光用マスクにおいて、マスクパタ-ンは、露光光に対する光路長が透光性基板10の透明部分とは所定量だけ異なるように構成された半透明膜パタ-ンを含み、且つこの半透明膜パタ-ンは同一の元素(Si)を含む組成の異なるSi層11とSi3 N4 層12を、それぞれ最適な膜厚に積層して形成されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透光性基板上にマスクパタ-ンを形成した露光用マスクにおいて、前記マスクパタ-ンは、露光光に対する光路長が前記透光性基板の透明部分とは所定量だけ異なるように構成された半透明膜パタ-ンを含み、且つこの半透明膜パタ-ンは同一の元素を含む組成の異なる層を積層して形成されていることを特徴とする露光用マスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 W

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-173199 Applicant：大日本印刷株式会社
特開昭51-127254

Return to Previous Page