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J-GLOBAL ID：200903044274358036

ケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法

Inventor： 古藤 厳 ,  福田 博久
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994115555
Publication number (International publication number)：1995316846
Application date： May. 27, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【構成】 CMP排水をまず比較的小さい孔径の多孔質膜で濃縮し、次に比較的大きい孔径の多孔質膜を透過させ、濾過水と濃縮水を回収して再使用、又は、濃縮水に凝集剤を添加し、固形物にして回収する。【効果】 CMP排水処理用膜濾過装置の設置スペースが小さく、濾過水と濃縮水は再度使用するためコストメリットが大きい。又、濃縮水中の砥粒を固形化して回収することもできるため作業性が良い。

Claim (excerpt)：

ケミカルメカニカルポリッシング液を用いてウエハーをポリッシングした際生じる廃液を、まず、0.2μm以下の孔径を有する膜で濾過し、該濾過液を1μm以上の孔径を有する膜を用いて濾過することを特徴とするケミカルメカニカルポリッシング液の再生方法。

IPC (3)：

C23F 1/46 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 61/58