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J-GLOBAL ID：200903044288317162

面光源装置

Inventor： 片倉 孝明 ,  佐藤 三倉 ,  飛田 道昭
Applicant, Patent owner： タイホー工業株式会社
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993195255
Publication number (International publication number)：1995028061
Application date： Jul. 13, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 全面に亙って均一で高い輝度を得られるようにした面光源装置を提供する。【構成】 導光板2の少なくとも一端に線光源1を配すると共に導光板2の一面に略平行状の複数条の溝3...による乱反射パターンを表示した反射層を形成したエッジライト方式の面光源装置において、上記反射層は、溝幅の溝間隔に対する割合が0.002〜0.3であり、しかも溝の深さの導光板の厚みに対する割合が0.0005〜0.02になるように設定されたものである。

Claim (excerpt)：

導光板の少なくとも一端に線光源を配すると共に導光板の一面に略平行状の複数条の溝による乱反射パターンを表示した反射層を形成したエッジライト方式の面光源装置において、上記反射層は、溝幅の溝間隔に対する割合が0.002〜0.3であり、しかも溝の深さの導光板の厚みに対する割合が0.0005〜0.02になるように設定されたものであることを特徴とする面光源装置。

IPC (3)：

G02F 1/1335 530 ,  F21V 8/00 ,  G02B 6/00 331