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J-GLOBAL ID：200903044322200954

オゾン注入システム

Inventor： 西 高志 ,  松尾 俊明 ,  松本 隆行
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177769
Publication number (International publication number)：2001000986
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】オゾンガスを用いた廃液の処理システムにおいて、オゾンガスを製造する原料ガスを節約し、運転コストを低減する。【解決手段】有機物を含む放射性廃液に、酸素ガス、あるいは酸素富化空気を原料ガスとしてその無声放電により発生するオゾンを曝気し、廃液中にオゾンを溶解する処理方法において、曝気後の気体を循環し前期原料ガスに混合する。

Claim (excerpt)：

有機物を含む放射性廃液に、酸素ガス、あるいは酸素富化空気を原料ガスとしてその無声放電により発生するオゾンを曝気し、廃液中にオゾンを溶解する処理方法において、曝気後の気体を循環し前期原料ガスに混合することを特徴とするオゾン注入システム。

IPC (5)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01F 1/00 ,  C01B 13/10 ,  G21F 9/06 551 ,  G21F 9/28 525

FI (5)：

C02F 1/78 ZAB ,  B01F 1/00 A ,  C01B 13/10 D ,  G21F 9/06 551 A ,  G21F 9/28 525 G

F-Term (15)：

4D050AA13 ,  4D050AB02 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE13 ,  4G042AA07 ,  4G042CA01 ,  4G042CB12 ,  4G042CE04