作像システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青山葆 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997517564
Publication number (International publication number)：2000500881
Application date： Oct. 30, 1996
Publication date： Jan. 25, 2000
Summary：

【要約】本発明の作像システムは、それに対し接続され、サンプル平面(17)上にあるサンプル(S)を表す信号を出力する光学の回折限界で動作する。作像システムは、陰極線管(30)、光学レンズ系(10’)および検出手段(40)を含む。陰極線管(30)はラスターパターン中に電子ビーム(35)を発生する電子銃(34)を含む。電子ビーム(35)はラスターパターンに対応して走査する対象平面(26)に位置する照射スポット(39a)を発生するために適応される。光学レンズ系は回折限界法で、スポット(39b)の像が光学レンズ系(10’)によって定義される最小の回折限界サイズとなるように、対象平面(26)の像をサンプル平面(17)上に結ぶ。

Claim (excerpt)：

サンプル面上に位置して蛍光体を含むサンプルからの蛍光放射の形で回折限界の出力信号を発生する機能により特徴づけられた作像システムであって、 a)スポットスキャナ手段と、該スポットスキャナ手段はラスターパターンの走査に適応した実質的に等方性の放射体で照射スポットを発生する手段であり、上記ラスタパターンは垂直方向に所定の等間隔で隔離した所定数の水平線を有するフィールドを含み、上記照射スポットは対象平面上に位置し、 b)作像手段と、該作像手段は、サンプル面上の上記照射スポットの像が該作像手段の回折限界により定まる最小のスポットサイズになるように、回折限界で対象平面をサンプル面上へ作像し、 c)上記照射スポットがサンプルを照射する前に通過するように配置された励起フィルタ手段と、 d)走査され、フィルタされたサンプルを照射するスポットの結果としてサンプルから放射される蛍光放射を選択的にフィルタするように配置された放射フィルタ手段と、 e)上記サンプルからのフィルタされた蛍光放射を検出し、それに比例した変調出力信号を生成する手段とからなり、 f)上記対象平面スポットサイズは、上記作像手段がサンプル面において最小の回折限界スポットサイズを生成するために必要なサイズに等しいかそれ以下であり、サンプル面を表わす回折限界出力信号が、ディスプレイ装置で表示されるか、デジタル処理装置に対する出力になるように生成される作像システム。

IPC (3)：

G02B 21/00 , G09G 5/00 510 , H04N 5/325

FI (3)：

G02B 21/00 , G09G 5/00 510 D , H04N 5/325

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

顕微鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-071747 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
顕微鏡システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-040998 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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