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J-GLOBAL ID：200903044363224973

メイク洗浄料

Inventor： 野田 章 ,  内川 恵一 ,  中間 康成 ,  宮沢 清
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994110280
Publication number (International publication number)：1995291830
Application date： Apr. 25, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：

【要約】【構成】 化1のポリオキシエチレンモノエステルと、化2のアルキルグリコシドを含有するメイク洗浄料。特に、ポリオキシエチレンモノエステルがモノイソステアレート及び/又はモノオレエートである前記メイク洗浄料。【化1】(式中、Rは飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、aは1〜15の整数、bは7〜19の整数をそれぞれ表わす。)【効果】 メイクを落とす効果に優れていると同時に、水を加えることによって泡立たせることができ、使用後の肌にさっぱりした感触を与えるものである。

Claim (excerpt)：

一般式化1で表わされるポリオキシエチレンモノエステルと、一般式化2で表わされるアルキルグリコシドを含有することを特徴とするメイク洗浄料。【化1】(式中、Rは飽和又は不飽和の高級脂肪族炭化水素基、nは3〜14の整数である。)【化2】(式中、aは1〜15の整数、bは7〜19の整数をそれぞれ表わす。)

IPC (5)：

A61K 7/02 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/825 ,  C11D 1:68 ,  C11D 1:74