Pat
J-GLOBAL ID：200903044378237796
高周波誘導結合プラズマ分析装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992022015
Publication number (International publication number)：1993190136
Application date： Jan. 10, 1992
Publication date： Jul. 30, 1993
Summary：
【要約】【目的】 簡単な構成で、測定感度を向上させる。【構成】 ネブライザ3の噴霧孔に対向するスプレーチャンバー8の壁Aをヒータ21等で加熱する加熱手段を設けた。この様な構成において、図示外の電源からヒータ21に通電し、壁A部が適宜な温度になるように加熱した状態で、ネブライザ3から試料液がスプレーチャンバー8内に噴霧される。霧化された試料液の霧滴が、加熱された壁A部に接近すると、壁面の熱により、さらにその粒径が小さくされる。この粒径が小さくなった試料液滴は壁面に沿って形成されるガスの流れに乗り易くなり、この流れに乗って、導入管9を介してプラズマトーチ1内に導入され、従来例で述べた方法によって、イオン化され、質量分析される。
Claim (excerpt)：
液体試料を噴霧孔から噴霧室内に噴霧する噴霧器と、噴霧器によって霧状になった試料をプラズマトーチへ導入するようにした高周波誘導結合プラズマ分析装置において、前記噴霧室内の噴霧孔に対向する壁面を加熱する手段を設けたことを特徴とする高周波誘導結合プラズマ分析装置。
IPC (3)：
H01J 49/26
, H01J 49/04
, G01N 27/62
