Pat
J-GLOBAL ID：200903044426375900

高分子成形体の着色方法

Inventor：
大嶋 正裕

About 大嶋 正裕

, 
橋本 伊織

About 橋本 伊織

, 
谷垣 昌敬

About 谷垣 昌敬


Applicant, Patent owner：
京都大学長

About 京都大学長


Agent (1)： 杉村 暁秀 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000295478
Publication number (International publication number)：2002105228
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 経済的で、かつ、均一に顔料を着色できる着色方法を提供することである。【解決手段】 本発明は、二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に顔料を接触させることを特徴とする。また、二酸化炭素の超臨界状態での温度が、高分子成形体のガラス転移温度以上、かつ、融点以下の温度であることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
二酸化炭素の超臨界状態下において、少なくとも表面に非晶質層を有する高分子成形体に顔料を接触させることを特徴とする高分子成形体の着色方法。
IPC (6)：
C08J 7/04 ,  C08J 7/00 ,  D06P 1/44 ,  D06P 3/00 ,  D06P 5/00 ,  D06P 5/20
FI (6)：
C08J 7/04 Z ,  C08J 7/00 A ,  D06P 1/44 A ,  D06P 3/00 E ,  D06P 5/00 D ,  D06P 5/20 A
F-Term (46)：
4F006AA12 ,  4F006AA15 ,  4F006AA17 ,  4F006AA18 ,  4F006AA19 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AB65 ,  4F006BA15 ,  4F006DA02 ,  4F006DA05 ,  4F006EA01 ,  4F006EA02 ,  4F073AA15 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA13 ,  4F073BA15 ,  4F073BA17 ,  4F073BA19 ,  4F073BA23 ,  4F073BA24 ,  4F073BA26 ,  4F073BB05 ,  4F073DA08 ,  4F073DA09 ,  4F073EA75 ,  4F073GA11 ,  4H057AA02 ,  4H057BA15 ,  4H057CA29 ,  4H057CB49 ,  4H057CC02 ,  4H057DA02 ,  4H057DA17 ,  4H057DA18 ,  4H057DA32 ,  4H057DA34 ,  4H057FA16 ,  4H057FA17 ,  4H057GA03 ,  4H057HA01 ,  4H057HA02 ,  4H057JA10 ,  4H057JA14 ,  4H057JB02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM