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J-GLOBAL ID:200903044428973871

メソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000005813
Publication number (International publication number):2001058812
Application date: Jan. 06, 2000
Publication date: Mar. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。【解決手段】 高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。
Claim (excerpt):
高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体。
IPC (2):
C01B 33/12 ,  C08J 7/12
FI (2):
C01B 33/12 C ,  C08J 7/12 Z
F-Term (39):
4F073AA06 ,  4F073AA32 ,  4F073BA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA23 ,  4F073BA24 ,  4F073BA29 ,  4F073BA31 ,  4F073BB01 ,  4F073EA01 ,  4F073EA03 ,  4F073EA64 ,  4F073EA77 ,  4F073GA01 ,  4F073GA05 ,  4G072AA28 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072CC13 ,  4G072FF01 ,  4G072FF07 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ33 ,  4G072KK01 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072LL14 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072PP17 ,  4G072RR05 ,  4G072TT30 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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