監視制御装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：朝日奈宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999099441
Publication number (International publication number)：2000293223
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 1台の自動水質計測器を制御と監視に効率よく運用することのできる、有用な監視制御装置を得ること。【解決手段】サンプリング位置を選択できるサンプリング位置切り替え手段と、前記サンプリング位置の1つからプロセスデータを計測するデータ計測手段と、前記プロセスデータに応じてサンプリング位置を選択し前記サンプリング位置切り替え手段にこれを指示するとともに、選択したサンプリング位置に応じて計測されたプロセスデータを監視用データとして蓄積または表示するか、制御用データとして運転設定値の演算に供するかを決定するコントローラとから構成する。

Claim (excerpt)：

プロセス中の計測対象のサンプリング位置を選択できるサンプリング位置切り替え手段と、前記サンプリング位置の1つからプロセスデータを計測するデータ計測手段と、選択したサンプリング位置に応じて前記プロセスデータを監視用データとして蓄積または表示するか、制御用データとして運転設定値の演算に使用するかを決定するコントローラとから構成したことを特徴とするプロセスの監視制御装置。

IPC (9)：

G05B 23/02 301 , C02F 3/34 101 , G01N 1/00 101 , G01N 1/00 , G01N 1/16 , G05B 7/02 , G05B 15/02 , G01N 31/00 , G01N 33/18

FI (10)：

G05B 23/02 301 V , C02F 3/34 101 C , G01N 1/00 101 L , G01N 1/00 101 G , G01N 1/16 A , G05B 7/02 Z , G01N 31/00 G , G01N 31/00 F , G01N 33/18 Z , G05B 15/02 A

F-Term (32)：

2G042AA01 , 2G042BA05 , 2G042CA02 , 2G042CB03 , 2G042HA07 , 4D040BB32 , 4D040BB91 , 5H004GA28 , 5H004GA34 , 5H004GA35 , 5H004GB08 , 5H004HA04 , 5H004HB04 , 5H004JA22 , 5H004JB08 , 5H004JB10 , 5H004JB29 , 5H004JB30 , 5H004KA34 , 5H004KA35 , 5H004KA69 , 5H004LA16 , 5H004LA19 , 5H004LB06 , 5H215AA01 , 5H215BB01 , 5H215CC03 , 5H215CX10 , 5H223AA01 , 5H223BB01 , 5H223BB09 , 5H223EE02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

冷蔵庫
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-091932 Applicant：松下冷機株式会社
連続鋳造時の湯面高さ制御装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-033686 Applicant：住友金属工業株式会社
自動運転換気扇
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-061825 Applicant：株式会社日立製作所, 日立多賀テクノロジー株式会社

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