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J-GLOBAL ID：200903044443906986

ドライエッチング方法及びドライエッチング装置

Inventor： 門村 新吾
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992343272
Publication number (International publication number)：1994168918
Application date： Nov. 30, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 下地への影響や堆積物の剥離性に問題を生ずることなく、オーバーエッチング時に発生するおそれのある被パターニング部底部のえぐれであるノッチングを防止する技術を提供する。【構成】 オーバーエッチング工程III を有するドライエッチング方法において、冷却に超音波付与を併用するなどして有機系レジストにクラックを生じせしめII、この状態でエッチングを行うなど、オーバーエッチング時に、少なくとも被エッチング材の下部側壁に有機系の保護膜を与える条件でエッチングを行うドライエッチング方法。

Claim (excerpt)：

オーバーエッチング工程を有するドライエッチング方法において、オーバーエッチング時に、少なくとも被エッチング材の下部側壁に有機系の保護膜を与える条件でエッチングを行うことを特徴とするドライエッチング方法。