Pat
J-GLOBAL ID:200903044457511798
肌のシミュレーション画像の形成方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
田治米 登
, 田治米 惠子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003078791
Publication number (International publication number):2004283357
Application date: Mar. 20, 2003
Publication date: Oct. 14, 2004
Summary:
【課題】色ズレを生じさせることなく、より自然なテクスチャを有する肌のシミュレーション画像を形成する。【解決手段】偏光を用いて被験者の肌の内部反射光画像を形成し、該内部反射光画像に対して独立成分分析をすることにより、肌色を構成する少なくとも一つの色素成分の成分画像を抽出し、該色素成分画像に画像ピラミッド法を適用することにより、空間周波数の異なる複数階層の画像を形成し、該空間周波数の異なる画像について画素強度のヒストグラムを得、該ヒストグラムを、同様の方法で取得した特定の肌のヒストグラムに対してマッチングさせ、被験者の肌画像の再合成を行い、被験者の画像において肌のテクスチャを前記特定の肌のテクスチャに近づけたシミュレーション画像を形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
偏光を用いて肌の内部反射光画像を形成し、
該内部反射光画像に対して独立成分分析をすることにより、肌色を構成する少なくとも一つの色素成分の成分画像を抽出し、
該色素成分画像に画像ピラミッド法を適用することにより、空間周波数の異なる複数の画像を形成し、
該空間周波数の異なる複数の画像毎に画素強度のヒストグラムを得る肌のテクスチャの解析方法。
IPC (7):
A61B5/107
, A61B5/00
, G01N21/21
, G01N21/27
, G06T1/00
, G06T3/00
, G06T7/00
FI (8):
A61B5/10 300Q
, A61B5/00 M
, A61B5/00 101A
, G01N21/21 Z
, G01N21/27 A
, G06T1/00 340A
, G06T3/00 300
, G06T7/00 100A
F-Term (38):
2G059AA01
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059BB14
, 2G059CC16
, 2G059CC18
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE13
, 2G059GG03
, 2G059GG04
, 2G059GG10
, 2G059JJ19
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM02
, 2G059PP04
, 4C038VA04
, 4C038VB22
, 4C038VC01
, 4C038VC05
, 5B057BA02
, 5B057CA01
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB01
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CE01
, 5B057CE06
, 5B057CE08
, 5L096AA02
, 5L096CA03
, 5L096FA15
, 5L096FA22
, 5L096FA35
, 5L096FA41
, 5L096MA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
肌色測定装置および肌色診断装置ならびに顔画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-401791
Applicant:花王株式会社
-
帰納学習を用いた物理情報分類装置及び帰納学習を用いた物理情報分類規則生成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-238287
Applicant:株式会社資生堂
-
皮膚表面観察方法及び皮膚表面観察装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-247523
Applicant:花王株式会社
-
肌色情報表示方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-325752
Applicant:花王株式会社
-
画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-088255
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Return to Previous Page