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J-GLOBAL ID：200903044457684030

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor：
吉田 勲

About 吉田 勲

, 
原田 由香子

About 原田 由香子

, 
山口 訓史

About 山口 訓史


Applicant, Patent owner：
住友化学株式会社

About 住友化学株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006292109
Publication number (International publication number)：2007145824
Application date： Oct. 27, 2006
Publication date： Jun. 14, 2007
Summary：
【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。(式(I)中、Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Xは単環式または2環式の炭素数3〜30の炭化水素基を表す。nは1〜12の整数を表し、A+は有機対イオンを表す。式中の環Xは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルコキシ基又は炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし
Claim (excerpt)：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (5)：
C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  C07C 309/60 ,  C07C 303/22 ,  C07D 333/46
FI (5)：
C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  C07C309/60 ,  C07C303/22 ,  C07D333/46
F-Term (24)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81 ,  4H006AB84 ,  4H006AC48 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB21 ,  4H006BB31 ,  4H006BE01 ,  4H006BE10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社
Cited by examiner (6)
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