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J-GLOBAL ID：200903044510971569

投影露光装置、及び投影露光方法

Inventor： 白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992049440
Publication number (International publication number)：1993251301
Application date： Mar. 06, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 段差構造を有する所定の周期性パターンと所定の周期性パターン以外のパターンとの両方について最適な焦点深度を得る。【構成】 レチクルパターン8の光学的フーリエ変換面上に所定の開口部を有する遮光部材5を設ける。開口部からの光束はレチクルパターン8に対して傾いて入射する(傾斜照明)。レチクルパターン8は段差形状を有する所定の周期性パターン(Pm)と斜めパターンや孤立パターンからなるパターン(Pa)とで構成される。複数の計測点を有する焦点検出系AFを使用し、パターンPaが設けられた周辺回路部(A)とベストフォーカス位置(Fo)とを一致させるようZステージ31を駆動する。周期性パターンPmが設けられたメモリセル部(M)は傾斜照明の効果により焦点深度が増大し、良好にパターンが転写される。

Claim (excerpt)：

照明光を射出する光源と、前記光源からの照明光でマスクに形成されたマスクパターンを照明する照明光学系と、前記マスクパターンを感光基板上に投影露光する投影光学系と、前記基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させるZステージとを備えた投影露光装置において、前記照明光を、所定の角度範囲を有し、かつ前記マスクパターンに前記照明光学系の光軸に対して傾いて入射する少なくとも1つの光束に変換する光束変換部材と;前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し、該複数の計測点の夫々で前記感光基板の表面の前記光軸方向の位置ずれを検出する焦点検出手段と;前記複数の計測点での複数の位置情報の内、少なくとも1つを選択する手段とを備え、前記マスクパターンは少なくとも所定の周期性パターンを有し、前記選択手段により選択された情報に基づいて、該所定の周期性パターンが形成されていない前記感光基板上の領域の前記光軸方向に関する位置を前記投影光学系の最良結像面とほぼ一致させるよう前記Zステージを移動する駆動手段を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (4)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 301 W ,  H01L 21/30 311 S