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J-GLOBAL ID：200903044511356116

チオエーテル構造もしくはジスルフィド構造をもつフェノール誘導体、その製造法

Inventor： 熊木 尚 ,  陶 晴昭 ,  立木 秀康 ,  高崎 俊彦 ,  松谷 寛
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001119198
Publication number (International publication number)：2002316976
Application date： Apr. 18, 2001
Publication date： Oct. 31, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】半導体パッケージ等の電気・電子部品に使用される接着剤に添加される新規フェノール誘導体であり特に銅、銀、金などの金属で被覆された表面層に優れた接着性を示す接着剤を提供する。【解決手段】一般式11のフェノール化合物と、HS-R2-SHのジチオールとを、加熱・反応させてフェノリックモノチオールを得、これをエタノール溶媒中、過酸化水素を用いて酸化反応させ、一般式21のフェノリックジスルフィドとする。〔式中、R1は炭素数が2又は3のメチレン鎖、R2は炭素数が1〜10のメチレン鎖、Gは水素原子又は置換基を示す。〕

Claim (excerpt)：

式(21)で表されるフェノール誘導体。【化1】〔式中、R1は炭素数が2又は3のメチレン鎖、R2は炭素数が1〜10のメチレン鎖、Gは水素原子又は置換基を示す。〕

IPC (6)：

C07C323/16 ,  C07C319/14 ,  C07C319/18 ,  C09J 11/06 ,  C09J125/18 ,  C09J201/00

FI (6)：

C07C323/16 ,  C07C319/14 ,  C07C319/18 ,  C09J 11/06 ,  C09J125/18 ,  C09J201/00

F-Term (14)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB99 ,  4H006AC63 ,  4H006BB14 ,  4H006BB16 ,  4H006BE32 ,  4H006TA04 ,  4H006TB39 ,  4H006TB72 ,  4J040HD05 ,  4J040KA09 ,  4J040LA06 ,  4J040MA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• チオール-エン及びチオール-ネン組成物のための安定化システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-502826   Applicant：ロックタイトコーポレイション
• 特開昭62-178564
  
• 特開昭53-014800
  

Cited by examiner (3)

• チオール-エン及びチオール-ネン組成物のための安定化システム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-502826   Applicant：ロックタイトコーポレイション
• 特開昭62-178564
  
• 特開昭53-014800