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J-GLOBAL ID:200903044519260711

分析用プラズマトーチ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 英一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993185692
Publication number (International publication number):1995043305
Application date: Jul. 28, 1993
Publication date: Feb. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 高周波誘導プラズマを用いた分析法において、大気に起因する感度および精度の低下を抑制するプラズマトーチを提案する。【構成】 プラズマ周囲を外気と遮蔽するように先端部をイオンまたは光導入部まで延長したプラズマトーチとする。
Claim (excerpt):
高周波誘導プラズマを用いた分析装置において、プラズマ周囲を外気と遮蔽するようにプラズマトーチ先端部をイオン導入部近傍または光導入部近傍まで延長した構造とすることを特徴とする分析用プラズマトーチ。
IPC (2):
G01N 21/73 ,  G01N 27/62
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭62-208535
  • 特開平3-101043

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